半導体産業

半導体産業では、非常に高純度で大きな結晶も必要とされます。

デジタル革命には革新的なソリューションが必要です。私たちは、高精度のシステムや技術を構築するための半製品を、半導体業界に独占的に供給していることを誇りに思っています。ウェハー加工から品質管理まで、当社の製品は、より強力で効率的な電子部品の製造に貢献しています。

マイクロリソグラフィ(CaF2)

ZEISSセミコンダクター・マニュファクチャリング・テクノロジー(SMT)のDUV(深紫外光)リソグラフィ光学部品は、波長365、248、193ナノメートルの不可視紫外スペクトルの光を使用し、精密な露光を行います。これらの光学部品はASMLのシステムで使用されています。

©ASML - TWINSCAN NXT:2000iは、300mmウェハの量産向けに設計された高生産性の2ステージ液浸露光装置です。業界最高の開口数(NA)1.35のインラインカタディオプトリックレンズを搭載しています。
©ASML – TWINSCAN NXT:2000iは、300mmウェハの量産向けに設計された高生産性の2ステージ液浸露光装置です。 業界最高の開口数(NA)1.35のインラインカタディオプトリックレンズを搭載しています。