Geschichte

Seit 1886 in der Geschichte der optischen Industrie Jenas verankert

Unsere Erfahrungen in der Kristallzucht, insbesondere von CaF2, sind seit weit über 100 Jahren mit Jena verbunden.

  • 1886 – Erster Einsatz von Fluorid durch Ernst Abbe in der Optik bei Zeiss in Jena -> Apochromaten
  • 1904 – Ernst Abbe unterstützt den Neubau des Mineralogischen Instituts der Universität Jena durch die Einrichtung eines Laboratoriums für Kristallzüchtung
  • 1930 – Beginn der Züchtung optischer Kristalle (aus Schmelzen nach Krystopoulos, Bridgemann und aus wässrigen Flüssigkeiten) in einem Labor der Zeiss-Fabrik.
  • 1958 – Beginn der Kristallzüchtung von CaF2 in Eisenberg für VEB Carl Zeiss Jena -> CaF2-Rohlinge Ø 250 mm
  • 1961 – Beginn der industriellen Produktion synthetischer optischer Kristalle in der Fabrik in Eisenberg/Thür.: CaF2
  • 1973 – Gründung eines Technikums zur Kristallherstellung: Züchtung von BaF2, SrF2, MgF2.
  • 1986 – Industrielle Kristallzüchtung in Jena (hohe Qualität & große Mengen)
  • 1996 – Übernahme der Kristallzüchtungsanlage in Eisenberg durch Schott Spezialglas
  • 1997 – Teil eines EU-Projektes zur Entwicklung von CaF2-Kristallen für den Einsatz in 193 nm-Anwendungen
  • 01/1998 – Gründung SCHOTT® ML
  • 10/1998 – Übernahme der Kristallzüchtungsanlage in Eisenberg von Schott Spezialglas
  • 2000 – CaF2 für ZEISS Objektiv Starlith® 1100 für den Stepper ASML PAS 5500/1150C für das 𝜆 =193 nm.
  • 2001 – SCHOTT® ML wird in SCHOTT® Lithotec AG umbenannt
  • 2001 – Eröffnung einer dritten Kristallzuchtungsanlage in Jena
  • 2003 – Auszeichnung mit dem Wissenschaftspreis des Stifterverbandes: In enger Kooperation mit dem Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB (Team Prof. Georg Müller) gelingt SCHOTT Lithotec (heute Hellma Materials) der Durchbruch bei der Züchtung des „perfekten Kristalls“.
    Durch den Einsatz von komplexen Computersimulationen konnten über 70 Züchtungsparameter optimiert werden, um Calciumfluorid-Kristalle in weltweit führender Reinheit und Größe für die Halbleiterindustrie (Lithografie unter 100 nm) herzustellen. Dieser Erfolg sichert die Position als globaler Zulieferer für die Chipindustrie.
  • 08/2003 – Konsolidierung aller CaF2-Kapazitäten in einer Fabrik
  • 07.04.2010 – Gründung der Hellma Materials