Halbleiterindustrie

Sehr reine und große Kristalle werden ebenfalls in der Halbleiterindustrie benötigt.

Die digitale Revolution braucht innovative Lösungen. Wir sind stolz darauf, die Halbleiterindustrie exklusiv mit unseren Halbzeugen für den Bau der hochpräzisen Systeme und Technologien zu beliefern. Von der Waferbearbeitung bis zur Qualitätskontrolle – unsere Produkte tragen dazu bei, immer leistungsfähigere und effizientere elektronische Bauelemente herzustellen.

Mikrolithografie (CaF2)

DUV-Lithografieoptiken (Deep Ultraviolet Light) von ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) nutzen Licht im unsichtbaren Ultraviolettspektrum mit Wellenlängen von 365, 248 und 193 Nanometern zur präzisen Belichtung. Diese Optiken kommen in den Anlagen von ASML zum Einsatz.

©ASML - Der TWINSCAN NXT:2000i ist ein hochproduktives, zweistufiges Immersionslithografie-Tool, das für die Massenproduktion von 300-mm-Wafern entwickelt wurde. Das System ist mit einem Inline-Katadioptrien-Linsendesign mit einer numerischen Apertur (NA) von 1,35 ausgestattet – der höchsten in der Branche.
©ASML – Der TWINSCAN NXT:2000i ist ein hochproduktives, zweistufiges Immersionslithografie-Tool, das für die Massenproduktion von 300-mm-Wafern entwickelt wurde.